Yeni malzeme araştırma ve geliştirme, performans optimizasyonu ve sürdürülebilir kalkınma inovasyonu
SINOMER®EADMA (2-Etil-2-adamantil metakrilat), 193 nm fotorezist için önemli bir matris polimer monomeridir.
2-Etil-2-adamantil metakrilat
209982-56-9
C16H24O2
varil veya karton
%98 min.
SINOMER®ECHMA önemli bir monomerdir.
1-Etilsikloheksil Metakrilat
274248-09-8
C12H20O2
varil
%98 min
SINOMER®ECPMA is an important monomer.
1-Etilsiklopentil Metakrilat
266308-58-1
C11H18O2
varil
%98 min
SINOMER®HAMA önemli bir monomerdir.
3-Hidroksi-1-metakriloyoksiadamantan
115372-36-6
C14H20O3
varil veya karton
%98 min
SINOMER® IPAMA esas olarak fotorezist monomeri olarak kullanılır.
2-izopropil-2-adamantil metakrilat
297156-50-4
C17H26O2
varil veya karton
%99 min
SINOMER®MADMA (2-Metil-2-adamantil Metakrilat), 193 nm fotorezist için önemli bir matris polimer monomeridir.
2-Metil-2-adamantil Metakrilat
177080-67-0
C15H22O2
25 kg/200 kg/varil
%98
SINOMER®MCHMA önemli bir monomerdir.
1-Metilsikloheksantil-metakrilat
76392-14-8
C11H18O2
varil
%98 min
SINOMER®MCPMAis an important monomer.
1-Methylcyclopentyl Methacrylate
178889-45-7
C10H16O2
drum
98% min
