Sinomer® NNDMA, serbest radikal fotokürleme reaksiyonu için uygun olan ve UV kaplamalar, UV mürekkepleri ve UV yapıştırıcılar gibi doymamış sistemlerde yaygın olarak kullanılan, mükemmel performansa sahip bir amid monomer türüdür.
İyi yapışma: Çoğu alt tabaka malzemesine iyi yapışma özelliği.
Aktif kimyasal özellikler: NNDMA monomeri çift bağlara ve amid gruplarına sahip olduğundan, çeşitli monomerlerle çeşitli polimerizasyon reaksiyonlarını gerçekleştirmek kolaydır.
İyi hidrofilite: suyla karışabilir, güçlü higroskopik özelliktedir, buğu önleyici kaplama için uygundur.
Diğerleri: ultra düşük viskozite, reçinelerle iyi uyumluluk, düşük kürlenme büzülmesi, iyi yapışma, vb.
